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        日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備
        簡要描述:

        日本ULVAC愛發科H83-50 H83-125 H84-125半導體臥式熱處理設備
        日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備

        • 產品型號:H83-50 H83-125 H84-125
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2024-11-25
        • 訪  問  量:427

        詳細介紹

        日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備

        日本ULVAC愛發科半導體臥式熱處理設備


        臥式熱處理設備H系列

        這是一款高度可靠的熱處理爐,擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。


        特征

        • 這是一種臥式爐,用作氧化爐、擴散爐和退火爐。

        • 可以在一臺設備上選擇不同的進程。

        • 我們的目標是通過使用 3 層或 4 層配置來節省空間。

        • 5 個區域加熱器均獨立控制,可實現溫度控制,具有出色的熱均勻性和穩定性。

        • 配備內部控制系統,操作簡單可靠。

        • H83-125和H84-125標配船用升降機,可以輕松裝載到上層。

        • 可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。

        目的

        • 硅片的熱氧化、擴散和退火

        規格

        模型H83-50H83-125H84-125
        過程氧化、擴散、退火
        晶圓直徑~200mm(8英寸)
        級數334
        產品晶圓數量50125125
        加熱區5
        加熱器材質鐵鉻鋁
        常用溫度600~1200℃
        浸泡長度370毫米800毫米800毫米
        溫度均勻±1.0℃

















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