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        日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備
        簡要描述:

        日本ULVAC愛發科半導體間EI系列歇式真空沉積設備
        日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備

        • 產品型號:EI系列
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2024-11-25
        • 訪  問  量:218

        詳細介紹

        日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備

        日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備


        間歇式高真空蒸發設備EI系列

        間歇式高真空蒸發設備ei系列是一種在基材上形成金屬和氧化物薄膜的設備。排氣作業及成膜作業可在操作面板的集中控制下自動進行,適合研究開發及小規模生產。


        特征

        • 可配備各種蒸發源(EB、電阻、EB+電阻)

        • 根據工藝(升空、行星、衛星等)的基材支架

        • 兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。

        • 液晶觸摸屏集中顯示和操作

        • 使用 PC 的出色操作性和功能(配方功能、數據記錄、維護輔助功能)

        目的

        • 功率器件等相關化合物

        • LED、LD、高速器件

        • 用于各種實驗

        • 其他一般電子零件



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